반응형 반도체 전자기유도1 [반도체 공정] ICP(Inductively Coupled Plasma) 유도결합플라즈마란? *ICP(Inductively Coupled Plasma) ICP 방법은 Plasma가 형성되는 챔버를 코일로 둘러싸고 RF 전력을 인가하는 것입니다.여기서 먼저 전자기유도에 대해 알아야 이해가 쉽습니다. 코일과 자석이 있다고 생각해봅시다. 코일 안에 자석을 집어 넣는 그 순간에만 코일에는 전류가 흐릅니다. 또, 반대로 코일 안에 있던 자석을 밖으로 빼는 그 순간에만 코일에 전류가 흐릅니다. 왜 그런 것일까요? 자연은 변화를 싫어합니다. 유지하려고 하죠. 위 그림처럼 원래 코일을 통과하는 자속선은 가운데에 있는 선 하나일 것입니다. 하지만 자석이 코일 안으로 들어간다면 오른쪽 그림처럼 코일 안에는 5개의 자속선이 모두 들어가게 되는 것이죠. 이때 코일에서는 이와 반대방향으로 자속선이 4개가 나옵니다. 이.. 2020. 3. 8. 이전 1 다음 반응형
