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CVD공정2

[반도체 공정] PECVD 공정(deposition) (2) CVD 공정 중에서도 실제 많이 사용되는 PECVD 공정에 대해 알아보겠습니다. *PECVD란? PECVD란 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition의 약자로 Plasma를 이용하여 박막을 증착시키는 공정입니다. 그렇다면 PECVD를 알기 전에 Plasma에 대해 알아야겠죠? *Plasma란? Plasma란 물질의 4번째 상태를 말합니다. 쉽게 말해서 고체, 액체, 기체 다음의 물질 상태를 의미합니다. 좀 더 자세히 설명해 드리면 '이온화된 기체'라고 볼 수 있습니다. 이러한 4번째 상태, 즉 이온화시키기 위해서는 외부 에너지(높은 온도, 전기장 등)를 가해주어야 합니다. 높은 외부 에너지를 가해주면 이온화, 여기, 이완, 해리 등이 일어납니다. 대표적으로 이온화, 여기.. 2019. 12. 18.
[반도체 공정] 박막 증착(Deposition) (1) 박막은 얇은 막을 뜻하는 데요. 기본적으로 박막증착이란 얇은 막을 쌓아 올린다고 생각하시면 됩니다. 마치 햄버거나 샌드위치를 만들기 위해서 빵 위에 양상추, 패티, 소스, 베이컨 등등을 올리는 것과 비슷합니다. (여기서 햄버거, 샌드위치 = 완성된 Device, 재료들: 박막) *박막의 제조방법박막의 제조방법으로는 크게 세 가지가 있습니다.첫 번째로 화학 기상 증착(CVD, chemical vapor deposition), 두 번째로 물리기상 증착(PVD, physical vapor deposition), 세 번째로 원자 층 박막증착(ALD, atomic layer depositon)이 있습니다. *CVD 공정먼저 CVD 공정부터 설명해 드리겠습니다.CVD 공정은 아까 말씀드렸듯이 chemical vap.. 2019. 12. 11.
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